反應釜加熱冷卻裝置的放置方法和原理分析

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

反應釜加熱冷卻裝置的放置方法和原理分析

反應釜加熱冷卻裝置的放置方法和原理分析

反應釜加熱冷卻裝置它整個液體循環(huán)是密閉的，帶有膨脹容器，膨脹容器和液體循環(huán)是絕熱的，并不參與液體循環(huán)，只是機械的連接，不管液體循環(huán)的溫度是高溫還是低溫膨脹容器中的介質低于。整個液體循環(huán)是密閉的系統(tǒng)，低溫時沒有水汽的吸收，高溫時沒有油霧的產生，導熱油可以很廣的工作溫度。

　　無錫冠亞反應釜加熱冷卻裝置整個循環(huán)系統(tǒng)中沒有使用機械的和電子的閥。就是利用有限的制冷劑在封閉的制冷系統(tǒng)中，反復地將制冷劑壓縮、冷凝、膨脹、蒸發(fā)，不斷的在蒸發(fā)器處吸熱汽化，進行制冷加熱。

　　1、壓縮空氣制冷循環(huán)：由于空氣定溫加熱和定溫排熱不易實現，故不能按逆向循環(huán)運行。在壓縮空氣制冷循環(huán)中，用兩個定壓過程來代替逆向循環(huán)的兩個定溫過程，故可視為逆向循環(huán)。

　　2、吸收式制冷循環(huán)利用制冷劑在溶液中不同溫度下具有不同溶解度的特性，使制冷劑在較低的溫度和壓力下被吸收劑(即溶劑)吸收，同時又使它在較高的溫度和壓力下從溶液中蒸發(fā)，完成循環(huán)實現制冷目的。

　　3、反應釜加熱冷卻裝置在搬運時，應抬底腳，不能抓住門把手上施力，更不能在地面上拖拉；

　　4、反應釜加熱冷卻裝置箱體大傾斜角不能超過15度,更不能倒置或橫放，否則會損壞壓縮機或使壓縮機中的冷凍油流入制冷管路，影響制冷，而且易造成壓縮機脫簧。

　　5、在運輸過程中，要防止磕碰和劇烈震動，要防止雨淋水浸。

　　6、反應釜加熱冷卻裝置應安放在遠離熱源，不受陽光直射的地方，因工作時需要與外界進行熱交換，既通過冷凝器向外界散熱，外界環(huán)境溫度越高，散熱越慢，制冷效果差。

　　7、應安放在濕度小的地方，由于設備外殼，冷凝器和壓縮機等均是金屬材料，如果空氣濕度太大，會使這些部件生銹，縮短使用壽命。同時潮濕過熱環(huán)境，會造成表面凝露，影響機器性能。

　　8、應安放在通風良好的地方，如果反應釜加熱冷卻裝置周圍堆滿雜物，或者靠墻太近，不利于散熱會影響制冷效果。

　　9、安放在平坦堅實的地面上，并使壓縮機保持水平。而且可使壓縮機平穩(wěn)工作，減少震動和噪音。

10、不應安放在溫度過低的地方。因為溫度過低，壓縮機啟動困難。不應安放在易燃，易爆和有腐蝕性物品的環(huán)境中。