TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用

無錫冠亞冷熱一體機典型應(yīng)用于：

高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用

TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用

　　在醫(yī)藥合成、精細化工操作過程中，我們經(jīng)常會遇到氧化反應(yīng)、酸堿中和等強放熱反應(yīng)，對于這些強放熱反應(yīng)，如果操控不當或設(shè)備不給力就很容易出現(xiàn)靠譜事故或生產(chǎn)效率低的缺陷。TCU制冷加熱循環(huán)裝置通過控制盤管或是夾套內(nèi)的油溫來進行工藝控制，也常常被稱為反應(yīng)釜夾套加熱裝置。

　　在持續(xù)的穩(wěn)定放熱反應(yīng)過程中，需要連續(xù)不間斷的向反應(yīng)釜夾套內(nèi)通冷卻水實施降溫才能勉強維持冷熱平衡，此謂釜底抽薪；但是，如果放熱突然加劇就易引發(fā)沖料、溢鍋或更大的靠譜事故，這其中的主要原因是反應(yīng)釜的單位體積換熱面積太小，單純的夾套降溫遠不能滿足放熱工藝對冷能的需要量。

　　反應(yīng)釜反應(yīng)階段的溫度不是一個線性過程，其中有放熱、吸熱、反應(yīng)速率等各種因素的影響，單純的PID控制是控制不住的，全自動控制實現(xiàn)起來難度很大，需要建立起數(shù)學模型，采用醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置進行控溫。

醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置基于預(yù)測的模糊自整定PID集成控制技術(shù)實現(xiàn)反應(yīng)釜溫度控制，其主要思想是利用系統(tǒng)模型的預(yù)測輸出，結(jié)合常規(guī)PID的控制經(jīng)驗，采用模糊推理方法，對控制器算法進行改進。醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置與通常的PID控制方案相比，該設(shè)備提高了系統(tǒng)的魯棒性和適應(yīng)性，較好的解決了反應(yīng)釜溫度控制的難題。