半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統

適合化工、制藥、生化等低溫反應設備

全密閉管道式設計，高效板式熱交換器， 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制

半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統廠家

半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統廠家

制冷加熱裝置也稱之為：制冷加熱動態控溫系統、高低溫一體機、制冷加熱循環裝置等，不同企業給予的名稱不同，是專門給反應釜做升降溫用，整個循環系統的導熱介質是全密閉循環，循環系統帶有液體膨脹容器，膨脹容器和液體循環是獨立系統，膨脹容器并不參與液體循環，只是機械的連接。就算高溫運行的情況下，膨脹容器中的導熱介質都不會高于50度。

無錫冠亞擁有數位在超低溫、高低溫開發方面具有豐富經驗的高素質專業設計人員的研發隊伍。特別是反應釜控溫為單一介質控制 -90度～+250 度連續控溫。產品溫度范圍涉及－152度到350度，還可以根據客戶的需求進行非標加工定做。

科學技術的發展也不斷加速了化工制藥行業的研發工作，從而促進了實驗儀器設備的不斷發展，我國現在處于儀器設備高度發展時期，制冷加熱裝置也迎來了廣闊的前景，進入了快速發展時期。

據無錫冠亞技術人員介紹，制冷加熱裝置采用的導熱介質在一個密閉的系統中，帶有導熱介質的膨脹容器不參與循環過程，無論是高溫低溫，膨脹容器的溫度始終保持在常溫60℃，延長了導熱介質的使用壽命。由于使用的是同一介質，不需要更換介質和在不需要加壓的情況下就可以實現-90℃~195℃、-70℃~220℃、-55℃~250℃、-25℃~300℃連續控溫。只用同一種介質就可以快速響應控制溫度，可以在-120℃~300℃范圍內實現流體系統控溫。單一壓縮機制冷技術可以達到-150℃的溫度，并且體積更小，更容易抬放。