無錫冠亞—品牌—制冷甲基化反應控溫器tcu

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無錫冠亞—品牌—制冷甲基化反應控溫器tcu

　TCU主要用于反應釜集中控溫的，般是配套使用，在使用TCU反應釜的時候，定要注意清洗，要不然會影響TCU反應釜的高效運行。

　　TCU反應釜機械清洗：

　　TCU反應釜機械清洗的時候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過噴頭沖刷，將反應釜內(nèi)壁及攪拌器表面上的堅硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。

　　TCU反應釜機械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓，然后通過伸入釜內(nèi)的清釜機器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉變?yōu)樗鞯膭幽埽ㄟ^這個能量對壁面污垢進行沖擊實現(xiàn)清洗、清除的效果。

　　TCU反應釜機械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質(zhì)為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時間短，與手工清洗相比較，能節(jié)省大量人力、物力、財力，還不會對TCU反應釜造成損傷。

　　與原來手工清除相比，年下來能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時間，若將這部分時間用于生產(chǎn)，將能額外產(chǎn)生可觀的經(jīng)濟效益。同時，高壓水不會對反應釜內(nèi)壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè)，高壓水射流清洗已經(jīng)逐步成為清洗方法的主流。

　　TCU反應釜化學清洗：

　　TCU反應釜在進行化學清洗的時候，需要知道反應釜設備內(nèi)的垢樣成分，好是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗，選用清洗劑同時通過試驗確定對設備金屬不會造成腐蝕。然后通過現(xiàn)場架設臨時循環(huán)裝置將清洗液在設備內(nèi)循環(huán)流動，洗去污垢。

　　在進行TCU反應釜清洗的時候，先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內(nèi)壁，放盡，將溶劑通過加壓裝置流沖刷反應釜。如未達到清洗效果，向反應釜中加入適量的溶劑升溫攪拌回流達到清洗要求，然后將溶劑放出， 后用定量的溶劑沖洗反應釜內(nèi)壁，放出。

　　TCU反應釜人工進釜手工清除：

　　TCU反應釜人工進釜手工清除成本是很低的，但是進釜之前需要數(shù)小時的通風換氣，清除過程中還須隨時監(jiān)視釜內(nèi)氧氣濃度，有缺氧的危險；同時人工刮鏟除了不能*清理之外，還會造成反應釜內(nèi)壁的滑傷，這些滑痕客觀上造成了殘留物的進步附著。人進釜清理也會造成產(chǎn)品衛(wèi)生上的問題。般來說，清理臺釜所需時間約為半天天。

　　TCU反應釜清洗的三種方法各有利弊，機械清洗不會對設備產(chǎn)生腐蝕，對硬垢可以有效清洗，但是用時長、勞動強度大；化學清洗用工少，清洗時間短，清洗*，但是可能會造成設備被腐蝕；人工進釜手工清除成本低，但是危險性較大，不能*清理干凈。因此化學清洗應用在污垢較軟、薄的工況，機械清洗應用在污垢硬、厚的工況。

　　這三種TCU反應釜清洗的知識希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應釜。

大家在購買TCU的時候，對于TCU的功能有個全面的認識才能更好的，無錫冠亞作為TCU專業(yè)廠家，為此特地為大家整理了TCU溫控單元SR系列、ZLF系列的相關功能大全。

　　TCU溫度控制單元SR系列

　　溫度范圍：溫度范圍從-25℃200℃，其他溫度范圍需要定制寬（-50℃250℃）

　　TCU與反應釜配置：2～20臺反應釜集中式控制，每臺反應釜均可以立設定物料溫度、夾套溫度，實現(xiàn)臺加熱換熱主機和多臺載冷劑控制換熱單元TCU不同臺反應釜目標溫度。

　　性能優(yōu)勢：更加控制，TCU采用精準算法控制冷凍介質(zhì)和加熱介質(zhì)進入反應釜流體閥門的導通角，精準控制進入反應釜夾套制冷加熱流體的流量。 從高溫往低溫降溫時，和加熱主機沒有關系，只是把夾套重點額導熱介質(zhì)溫度降低。超高溫柔性降溫技術，可以從高溫250度降溫通入冷卻水過程中，不會有水蒸氣產(chǎn)生，水溫溫升控制在40度以內(nèi)，降低換熱器結垢風險。高的生產(chǎn)穩(wěn)定性和可重復性結果（提高生產(chǎn)產(chǎn)品的穩(wěn)定性）

　　安全特點：TCU具有多功能報警系統(tǒng)和安全功能，可根據(jù)需求定制防爆型產(chǎn)品

　　TCU溫度控制單元 ZLF系列

　　溫度范圍：用戶可以在個較寬的溫度范圍得到個密閉的、可重復的溫度控制，可實現(xiàn)-120度～300度控溫；

　　性能優(yōu)勢：避免了傳統(tǒng)設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小；內(nèi)置電加熱導熱油輔助系統(tǒng)，TCU可根據(jù)需求自動開啟輔助加熱系統(tǒng)，降低蒸汽使用壓力；可以通過快速運行精確配比各熱量需求，達到節(jié)約能源目的。

　　配置特點：TCU通過精確快速運算控制整個反應過程溫度，對于整個反應過程中出現(xiàn)放熱和吸熱反應進行快速響應控制；預留有標準化接口，可根據(jù)實際需求增加冷熱源換熱模塊；可選擇TCU控制反應過程溫度和單流體溫度，同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的；可進行配方管理與生產(chǎn)過程記錄。

　　無錫冠亞的TCU目前分為SR系列和ZLF系列，大家在選擇的時候，根據(jù)自己的溫度控制需求、大小、功率、溫度范圍、反應釜大小來選擇適合的型號。

標簽:   TCU

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