制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）

制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）

制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）

　反應釜是化工、制藥、發(fā)酵等生產(chǎn)常用的設備，反應釜高低溫循環(huán)一體機運行的平穩(wěn)直接關系到生產(chǎn)的質(zhì)量指標和效益，其中反應釜溫度其控制效果的好壞與產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量有直接重要的關系。

　　在整個設備中，反應釜高低溫循環(huán)一體機是比較嚴格的，也是比較復雜的，用普通常規(guī)控制方法難以實現(xiàn)有效的控制。在反應釜中，通過對釜內(nèi)的夾套通以加熱水，使釜溫升高，同時當加熱到預定反應溫度后就停止加熱，反應過程中在夾套中通以冷卻水，將反應產(chǎn)生的多余熱量移走，控制溫度保持恒定。

　　反應過程中反應釜溫度控制方法，通常是在反應釜中設置溫度傳感器以檢測反應釜溫度，當反應釜溫度高于預定反應溫度時，在夾套中通以冷卻水，將反應產(chǎn)生的多余熱量移走，控制反應過程中反應釜溫度保持恒定。這種溫度控制方法在判斷反應釜溫度高于預定反應溫度時，才進行調(diào)整，存在大的滯后性，很容易導致后續(xù)生產(chǎn)控制參數(shù)不穩(wěn)定，產(chǎn)品合格率低，反應釜效率低下。

　　為了生產(chǎn)出高質(zhì)量的化學合成產(chǎn)品，高低溫循環(huán)一體機需在生產(chǎn)過程中對反應釜中的溫度變化進行實時監(jiān)控，尤其是在強吸熱和強放熱的反應過程中。而在流程工藝技術中，可靠性也是需要重視的。長期穩(wěn)定的工作包括在低溫范圍內(nèi)的穩(wěn)定性，只有在恒定的工作條件下，才能保證流程工藝的模擬過程以及合成技術的可靠性，從而投入實際生產(chǎn)。

反應釜高低溫循環(huán)一體機采用密閉系統(tǒng)設計，其內(nèi)部導熱液不直接與環(huán)境空氣相互接觸，即使要補償導熱液因溫度變化而引起的體積變化時，也使用密閉膨脹罐。該設計能避免低溫時環(huán)境中濕氣的冷凝和高溫下有害氣體的揮發(fā)，并可以降低導熱液介質(zhì)的揮發(fā)和氧化，從而延長導熱液的使用壽命。

　　PID程序控溫制冷加熱一體機采用動態(tài)控溫模塊與反應釜壁緊密貼合，傳熱有效，不需要油浴、冰浴就可以實現(xiàn)準確控溫，多種控溫模式可以滿足不同的反應需求。當反應體系由于反應放熱或者加料引起體系溫度變化時，反應器能夠主動降溫或者升溫來補償溫度變化，是反應溫度維持在設定的溫度

　　PID程序控溫制冷加熱一體機的觸摸屏可以讓人員方便快捷的改變反應過程參數(shù)，一定程度減少人與反應的直接接觸。PID程序控溫制冷加熱一體機預先編制操作的程序，包括加料、升降溫等，系統(tǒng)自動執(zhí)行，提高人員的工作效率。